Создать свой профиль
Процитировано
Все | Начиная с 2019 г. | |
---|---|---|
Статистика цитирования | 69 | 55 |
h-индекс | 6 | 6 |
i10-индекс | 3 | 2 |
Общий доступ
Просмотреть все8 статей
0 статей
доступно
недоступно
На основе финансирования
Соавторы
- Hugh ChurchillAssociate Professor of Physics, University of ArkansasПодтвержден адрес электронной почты в домене uark.edu
- Arash Fereidouni Ghaleh MinabZurich Instruments USA, Inc.Подтвержден адрес электронной почты в домене zhinst.com
- Magda El-ShenaweeProfessor of Electrical Engineering at the University of ArkansasПодтвержден адрес электронной почты в домене uark.edu
- Jin HuAssociate Professor, University of ArkansasПодтвержден адрес электронной почты в домене uark.edu
- Krishna PandeyUniversity of ArkansasПодтвержден адрес электронной почты в домене uark.edu
- Rabindra BasnetUniversity of ArkansasПодтвержден адрес электронной почты в домене uark.edu
- Kenji WatanabeNational Institute for Materials ScienceПодтвержден адрес электронной почты в домене nims.go.jp
- Desalegn T. DebuMt HolyokeПодтвержден адрес электронной почты в домене mtholyoke.edu
- Hasan SiddiqueeNokia Bell LabsПодтвержден адрес электронной почты в домене nokia-bell-labs.com
- Joseph B. HerzogAssociate Professor of Engineering, University of IndianapolisПодтвержден адрес электронной почты в домене uindy.edu
- Shiva DavariUniversity of ArkansasПодтвержден адрес электронной почты в домене uark.edu
- T.TaniguchiNational Institute for Materials ScienceПодтвержден адрес электронной почты в домене nims.go.jp
Подписаться
Mahmudul Hasan Doha
Process Engineer at Intel
Подтвержден адрес электронной почты в домене uark.edu